中商情報網(wǎng)訊：刻蝕機是芯片制造過程中的核心設備之一，刻蝕是利用化學或者物理的方法將晶圓表面附著的不必要的材質進行去除的過程。在刻蝕機中，閃電、極光也都是等離子體會轟擊在晶圓表面，將原子直接打出，或發(fā)生化學反應與晶圓上的材料形成新的化合物揮發(fā)，實現(xiàn)刻蝕。
一、產(chǎn)業(yè)鏈
刻蝕機產(chǎn)業(yè)鏈中，上游為刻蝕機的四大組成部分，主要包括預真空室、刻蝕腔體、供氣系統(tǒng)及真空系統(tǒng)；中游為刻蝕機的制造，刻蝕技術主要有兩種，傳統(tǒng)濕法刻蝕技術及現(xiàn)代干法刻蝕技術；下游為刻蝕機的應用，主要用來制造半導體器件、太陽能電池及其他微機械制造。
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院
二、上游分析
刻蝕機主要包括預真空室、刻蝕腔體、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分。具體如下圖所示：
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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