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內(nèi)容概括

光刻機(jī)（MaskAligner)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻設(shè)備從光源（從最初的g-Line、i-Line發(fā)展到極紫外EUV）、曝光方式（從接觸式到步進(jìn)式，從干式投影到浸沒(méi)式投影）不斷進(jìn)行著改進(jìn)。目前光刻機(jī)主要可以分為主流IC前道制造光刻機(jī)、IC后道先進(jìn)封裝光刻機(jī)、LED/MEMS/Power Devices制造用光刻機(jī)以及面板光刻機(jī)。ASML、佳能以及尼康是光刻機(jī)主要供應(yīng)商，其中ASML在高端市場(chǎng)一家獨(dú)大并且壟斷EUV光刻機(jī)。從光刻機(jī)總體出貨量來(lái)看(含非IC前道光刻機(jī))，目前全球光刻機(jī)出貨量99%集中在ASML、尼康和佳能。其中ASML份額最高，達(dá)到67.3%,且壟斷了高端EUV光刻機(jī)市場(chǎng)。ASML技術(shù)先進(jìn)離不開(kāi)高投入,其研發(fā)費(fèi)用率始終維持在15%-20%，遠(yuǎn)高于Nikon和Canon。上海微電子是國(guó)內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)軍者，其IC前道光刻機(jī)可以實(shí)現(xiàn)90nm制程，未來(lái)有望逐步實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破。受益于下游需求旺盛，光刻設(shè)備有望量?jī)r(jià)齊升帶動(dòng)市場(chǎng)空間不斷增長(zhǎng)。價(jià)：隨著芯片制程的不斷升級(jí)，IC前道光刻機(jī)制造日益復(fù)雜，其價(jià)格不斷攀升。先進(jìn)制程發(fā)展使得晶體管成本降低，但是光刻機(jī)價(jià)格不斷增高。目前7nm EUV光刻機(jī)平均每臺(tái)價(jià)格達(dá)到了1.2億歐元。量：晶圓尺寸變大和制程縮小將使產(chǎn)線所需的設(shè)備數(shù)量加大，性能要求變高。12寸晶圓產(chǎn)線中所需的光刻機(jī)數(shù)量相較于8寸晶圓產(chǎn)線將進(jìn)一步上升。同時(shí)預(yù)計(jì)2020年隨著半導(dǎo)體產(chǎn)線得到持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)，光刻機(jī)需求也將進(jìn)一步加大。

報(bào)告目錄

第一章光刻機(jī)行業(yè)相關(guān)概述

第一節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)定義及分類(lèi)

一、光刻機(jī)行業(yè)定義
二、行業(yè)主要產(chǎn)品分類(lèi)

第二節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)特征分析

一、產(chǎn)業(yè)鏈分析
二、光刻機(jī)行業(yè)在國(guó)民經(jīng)濟(jì)中的地位
三、光刻機(jī)行業(yè)生命周期分析
（一）行業(yè)生命周期理論基礎(chǔ)
（二）光刻機(jī)行業(yè)生命周期

第三節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)經(jīng)營(yíng)模式分析

一、生產(chǎn)模式
二、采購(gòu)模式
三、銷(xiāo)售模式

第二章光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展環(huán)境分析

第一節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)政治法律環(huán)境分析

一、行業(yè)監(jiān)管管理體制
二、行業(yè)相關(guān)政策分析
三、上下游產(chǎn)業(yè)政策影響
四、進(jìn)出口政策影響分析

第二節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)經(jīng)濟(jì)環(huán)境分析

一、中國(guó)GDP增長(zhǎng)情況分析
二、工業(yè)經(jīng)濟(jì)發(fā)展形勢(shì)分析
三、社會(huì)固定資產(chǎn)投資分析
四、全社會(huì)消費(fèi)品零售總額
五、城鄉(xiāng)居民收入增長(zhǎng)分析
六、居民消費(fèi)價(jià)格變化分析

第三節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)社會(huì)環(huán)境分析

一、光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)社會(huì)環(huán)境
二、社會(huì)環(huán)境對(duì)光刻機(jī)行業(yè)的影響
三、光刻機(jī)行業(yè)業(yè)發(fā)展對(duì)社會(huì)發(fā)展的影響

第四節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)技術(shù)環(huán)境分析

一、光刻機(jī)工藝流程詳解
（一）氣相成底膜
（二）旋轉(zhuǎn)涂膠
（三）軟烘
（四）曝光
（五）顯影
（六）堅(jiān)膜
（七）檢測(cè)
（八）刻蝕
（九）去膠
二、光刻機(jī)工作原理分析
三、光刻機(jī)內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析
四、光刻機(jī)技術(shù)發(fā)展水平
五、光刻機(jī)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

第三章集成電路行業(yè)發(fā)展情況分析

第一節(jié) 集成電路產(chǎn)業(yè)概述

一、集成電路概念界定
二、集成電路產(chǎn)品特點(diǎn)
三、集成電路產(chǎn)業(yè)分類(lèi)
四、集成電路發(fā)展條件
五、集成電路產(chǎn)業(yè)鏈情況
六、集成電路的產(chǎn)量分析
七、集成電路行業(yè)生產(chǎn)分布格局
八、集成電路行業(yè)進(jìn)出口數(shù)據(jù)分析
九、中國(guó)集成電路行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模分析

第二節(jié) 全球集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展分析

一、世界集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述
二、世界集成電路產(chǎn)業(yè)區(qū)域格局
三、世界半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模
四、世界集成電路產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模
五、集成電路純晶圓代工市場(chǎng)分析
六、世界集成電路產(chǎn)業(yè)商業(yè)模式

第三節(jié) 集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)發(fā)展分析

一、集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)發(fā)展概況
二、集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)特點(diǎn)分析
三、集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)經(jīng)營(yíng)模式
四、集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)發(fā)展規(guī)模
五、集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局

第四節(jié) 集成電路制造行業(yè)發(fā)展分析

一、集成電路制造行業(yè)發(fā)展概況
二、集成電路制造行業(yè)發(fā)展瓶頸
三、集成電路制造行業(yè)發(fā)展規(guī)模
四、集成電路制造行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局

第五節(jié) 集成電路封測(cè)行業(yè)發(fā)展分析

一、集成電路封測(cè)行業(yè)發(fā)展概述
二、集成電路封測(cè)行業(yè)經(jīng)營(yíng)模式
三、集成電路封測(cè)行業(yè)發(fā)展規(guī)模
四、集成電路封測(cè)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局

第四章中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)供需形勢(shì)分析

第一節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展歷程分析

第二節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)供給分析

一、光刻機(jī)供給分析
二、光刻機(jī)供給預(yù)測(cè)
三、光刻機(jī)行業(yè)區(qū)域供給分析

第三節(jié) 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展情況

一、光刻機(jī)行業(yè)需求市場(chǎng)分析
二、光刻機(jī)行業(yè)客戶(hù)結(jié)構(gòu)分析
三、光刻機(jī)行業(yè)需求的地區(qū)差異

第四節(jié) 光刻機(jī)市場(chǎng)應(yīng)用及需求預(yù)測(cè)

一、光刻機(jī)應(yīng)用市場(chǎng)總體需求分析
（一）光刻機(jī)應(yīng)用市場(chǎng)需求特征
（二）光刻機(jī)應(yīng)用市場(chǎng)需求總規(guī)模
二、光刻機(jī)行業(yè)需求規(guī)模預(yù)測(cè)

第五章中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

第一節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

一、產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)分析
二、主要環(huán)節(jié)的增值空間
三、與上下游行業(yè)之間的關(guān)聯(lián)性

第二節(jié) 光刻機(jī)上游行業(yè)分析

一、光刻機(jī)產(chǎn)品成本構(gòu)成
二、上游行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
三、上游行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)
四、上游供給對(duì)光刻機(jī)行業(yè)的影響

第三節(jié) 光刻機(jī)下游行業(yè)分析

一、光刻機(jī)下游行業(yè)分布
二、下游行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
三、下游行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)
四、下游需求對(duì)光刻機(jī)行業(yè)的影響

第六章光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)形勢(shì)及策略

第一節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)全球市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況分析

一、光刻機(jī)行業(yè)波特五力分析
（一）現(xiàn)有企業(yè)間競(jìng)爭(zhēng)
（二）潛在進(jìn)入者分析
（三）替代品威脅分析
（四）供應(yīng)商議價(jià)能力
（五）客戶(hù)議價(jià)能力
二、光刻機(jī)行業(yè)集中度分析
三、光刻機(jī)行業(yè)區(qū)域集中度分析

第二節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)SWOT分析

第三節(jié) 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局綜述

一、光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)概況
（一）中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局
（二）光刻機(jī)行業(yè)未來(lái)競(jìng)爭(zhēng)格局和特點(diǎn)
（三）光刻機(jī)市場(chǎng)進(jìn)入及競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手分析
二、中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力分析
（一）中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力剖析
（二）中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的優(yōu)勢(shì)
三、光刻機(jī)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)策略分析

第七章光刻機(jī)行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況分析

第一節(jié) ASML

一、企業(yè)基本概況分析
二、企業(yè)光刻機(jī)產(chǎn)品分析
三、企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況分析
四、光刻機(jī)營(yíng)收按產(chǎn)品及地區(qū)劃分
五、出貨統(tǒng)計(jì)及銷(xiāo)售額情況
六、盈利能力及研發(fā)支出
七、企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)分析
八、企業(yè)在華布局情況

第二節(jié) 尼康（Nikon）

一、企業(yè)基本概況分析
二、企業(yè)光刻機(jī)產(chǎn)品分析
三、企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況分析
四、發(fā)揮面板光刻比較優(yōu)勢(shì)
五、光刻機(jī)貢獻(xiàn)利潤(rùn)巨大
六、光刻機(jī)出貨量結(jié)構(gòu)
七、企業(yè)研發(fā)投入情況

第三節(jié) 佳能（Canon）

一、企業(yè)基本概況分析
二、企業(yè)光刻機(jī)產(chǎn)品分析
三、企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況分析
四、光刻設(shè)備出貨量分析
五、盈利能力及研發(fā)支出
六、企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)分析

第四節(jié) 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司

一、企業(yè)基本概況分析
二、企業(yè)SMEE光刻機(jī)總覽
三、企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況分析
四、光刻機(jī)出貨情況分析
五、企業(yè)銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò)分析
六、企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)分析

第八章中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資前景分析

第一節(jié) 中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展前景

一、光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展?jié)摿?br/> 二、光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展前景展望
三、光刻機(jī)細(xì)分行業(yè)發(fā)展前景

第二節(jié) 中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè)

一、光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)分析
二、光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)分析
三、光刻機(jī)行業(yè)應(yīng)用趨勢(shì)預(yù)測(cè)

第三節(jié) 影響光刻機(jī)企業(yè)生產(chǎn)與經(jīng)營(yíng)的關(guān)鍵趨勢(shì)

一、市場(chǎng)整合成長(zhǎng)趨勢(shì)
二、需求變化趨勢(shì)及新的商業(yè)機(jī)遇預(yù)測(cè)
三、企業(yè)區(qū)域市場(chǎng)拓展的趨勢(shì)
四、科研開(kāi)發(fā)趨勢(shì)及替代技術(shù)進(jìn)展
五、影響企業(yè)銷(xiāo)售與服務(wù)方式的關(guān)鍵趨勢(shì)

第九章中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資機(jī)會(huì)與風(fēng)險(xiǎn)

第一節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)投融資情況

一、行業(yè)資金渠道分析
二、兼并重組情況分析

第二節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)投資機(jī)會(huì)

一、產(chǎn)業(yè)鏈投資機(jī)會(huì)
二、細(xì)分市場(chǎng)投資機(jī)會(huì)
三、重點(diǎn)區(qū)域投資機(jī)會(huì)

第三節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)

一、產(chǎn)業(yè)政策風(fēng)險(xiǎn)
二、原料市場(chǎng)風(fēng)險(xiǎn)
三、市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)風(fēng)險(xiǎn)
四、技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)分析

第四節(jié) 光刻機(jī)行業(yè)投資建議

一、行業(yè)投資方向建議
二、行業(yè)投資方式建議

第十章光刻機(jī)企業(yè)投資戰(zhàn)略與客戶(hù)策略分析

第一節(jié) 光刻機(jī)企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略規(guī)劃背景意義

一、企業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)的需要
二、企業(yè)強(qiáng)做大做的需要
三、企業(yè)可持續(xù)發(fā)展需要

第二節(jié) 光刻機(jī)企業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃制定依據(jù)

一、國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策
二、行業(yè)發(fā)展規(guī)律
三、企業(yè)資源與能力
四、可預(yù)期的戰(zhàn)略定位

第三節(jié) 光刻機(jī)企業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃策略分析

一、戰(zhàn)略綜合規(guī)劃
二、技術(shù)開(kāi)發(fā)戰(zhàn)略
三、區(qū)域戰(zhàn)略規(guī)劃
四、產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃
五、營(yíng)銷(xiāo)品牌戰(zhàn)略
六、競(jìng)爭(zhēng)戰(zhàn)略規(guī)劃

第四節(jié) 光刻機(jī)企業(yè)重點(diǎn)客戶(hù)戰(zhàn)略實(shí)施

一、重點(diǎn)客戶(hù)戰(zhàn)略的必要性
二、重點(diǎn)客戶(hù)的鑒別與確定
三、重點(diǎn)客戶(hù)的開(kāi)發(fā)與培育
四、重點(diǎn)客戶(hù)市場(chǎng)營(yíng)銷(xiāo)策略

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